چین علیه تحریمهای سنگین آمریکا؛ مدل آزمایشی اسکنر پیشرفته EUV تولید شد
منبع: https://rasanika.com
چین ظاهراً در رقابت نفسگیر تراشهسازی، گامی بلند برداشته و به فناوریای دست یافته که میتواند موازنهی قدرت در صنعت تراشه را تغییر دهد.
صنعت تراشهسازی چین احتمالاً یکی از بزرگترین جهشهای تکنولوژیک خود را تجربه کرده؛ چراکه گزارشهای جدید از ساخت نخستین نمونهی اولیهی دستگاه لیتوگرافی EUV بومی توسط این کشور حکایت دارند.
مقامهای پکن چندین سال است که برای دستیابی به فناوری لیتوگرافی EUV تلاش میکنند و شرکتهایی نظیر SMIC با مهندسی معکوس و جذب استعدادها، سعی در مشابهسازی تکنولوژی ASML داشتهاند.
اکنون رویترز گزارش میدهد که کوششهای سالیان اخیر به ثمر نشسته و چین موفق به توسعهی نمونهی اولیهی دستگاه لیتوگرافی EUV شده است؛ دستگاهی که ظاهراً کاملاً عملیاتی به نظر میرسد و توانایی تولید نور فرابنفش برای حکاکی روی ویفرهای تراشه را دارد.
ماشینهای لیتوگرافی EUV پیچیدگیهای فنی فراوانی دارند و ما هنوز از تکنیک بهکاررفته توسط مهندسان چینی در نمونهی اولیهشان بیاطلاع هستیم؛ اما گزارشها نشان میدهند که متخصصان این کشور به قطعات ماشینهای قدیمیتر ASML تکیه کردهاند.
دستگاه موردبحث هنوز هیچ تراشهای را به مرحلهی تولید نرسانده؛ بااینحال منابع آگاه ادعا میکنند که چین میتواند تا سال ۲۰۳۰ فناوری EUV را به جریان اصلی تبدیل کند؛ زمانیکه بسیار زودتر از برآوردهای پیشین برای رسیدن چین به ایالات متحده در رقابت تراشهسازی محسوب میشود.
تبوتاب هوش مصنوعی نیاز به تراشههای بومی را در چین بهشدت افزایش داده و شرکتهایی مانند هواوی با احداث شبکهای از تأسیسات و همکاری با SMIC، در تکاپوی تأمین ظرفیت تولید تراشه هستند.
پیگیری برای دستیابی به تراشههای ردهبالا در نحوهی عملکرد لیتوگرافی N+3 شرکت SMIC نیز مشهود بود؛ فناوریای که رقیب لیتوگرافی ۵ نانومتری رایج به شمار میرود، اما بهدلیل محدودیتهای تکنولوژیک چین توسعه یافته است.